引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作,是微納制造技術的關鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的耗材,其性能決定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:22
9350 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/3F/32/pYYBAGJmaDKAClS7AAZN7z1RzZ0553.png)
關鍵詞:氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環保光刻膠去除方法的候選方法。已經證明,臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑,即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:13
1396 ![](https://file.elecfans.com//web2/M00/2C/59/poYBAGHbqd-AbcPgAABQKoS47Mk647.png)
光刻膠為何要謀求國產替代?中國國產光刻膠企業的市場發展機會和挑戰如何?光刻膠企業發展要具備哪些核心競爭力?在南京半導體大會期間,徐州博康公司董事長傅志偉和研發總監潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:23
5918 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/66/47/pYYBAGMMZpmAQIqFAALARFK4WSc530.png)
,增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環節的重要材料,目前主要被日美把控,國內在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等,那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優勢,國內廠商在光
2021-08-12 07:49:00
5380 電子發燒友原創 章鷹 ? 近日,全球半導體市場規模增長帶動了上游半導體材料旺盛需求,“光刻膠”的突破也成為國內關注焦點。正當日本光刻膠企業JSR、東京應化和美國Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:00
2718 一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型:正性光刻和負性光刻,區別如下
2021-01-12 10:17:47
:1倍的在硅片上直接分步重復曝光系統。 光致抗蝕劑 簡稱光刻膠或抗蝕劑,指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑:受光照部分發生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非
2012-01-12 10:51:59
關于光刻工藝的原理,大家可以想象一下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當于膠片,而光刻機就是沖洗臺,它把掩膜版上的芯片電路一個個的復制到光刻膠薄膜上,然后通過刻蝕技術把電路“畫”在晶圓上。 當然
2020-07-07 14:22:55
的厚膜圖形;它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩定性;在受到紫外輻射后發生交聯,是一種化學擴大負性膠,可以形成臺階等結構復雜的圖形;在電鍍時可以直接作為絕緣體使用。 SU-8光刻膠的優點:1
2018-07-12 11:57:08
在集成電路制造中的應用,對其反應機理及應用性能指標進行闡述,重點從工藝的角度去提出新的研究方向。關鍵詞:光刻膠;應用性能;反應機理;集成電路;光刻 中圖分類號:TN305.7 文獻標識碼: A
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺間距小的地方全都有殘留,間距大的地方沒有殘留;工藝參數:s9920光刻膠, evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年,位總部設在美國新澤西州,富蘭克林市。 公司業務范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發最高端產品方面已經有很長的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46
環境濕度太大,使膠與玻璃表面粘附不良。因此,得注意做好玻璃表面清潔處理和操作的環境的溫,濕度及清潔工作。2)光刻膠配制有誤或膠陳舊不純,膠的光化學反應性能不好,使膠與ITO層成健能力差,或者膠膜不均勻
2018-11-22 16:04:49
的雜質和油污洗凈,然后把水除去并干燥,保證下道工藝的加工質量。C. 涂光刻膠:在ITO玻璃的導電層面上均勻涂上一層光刻膠,涂過光刻膠的玻璃要在一定的溫度下作預處理。D. 前烘:在一定的溫度下將涂有
2019-07-16 17:46:15
SU 8光刻膠系列產品簡介:新型的化學增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題,十分適合于制備高深寬比微結構。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
lithography是一種平板印刷技術,在平面光波回路的制作中一直發揮著重要的作用。具體過程如下:首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面,淀積一層光刻膠;使用掩模版對光刻膠曝光固化,并在
2018-08-24 16:39:21
的,并且在光刻膠顯影步驟后驗證了附著力。沒有參考文獻提到在濕蝕刻過程中使用預涂層處理來提高附著力,也沒有觀察到對濕蝕刻輪廓的影響,這通常歸因于蝕刻劑的 GaAs 晶體結構和特性。 背景: 流程變更 對我們
2021-07-06 09:39:22
區別在于材料的化學結構和光刻膠對光的反應方式。對于正性光刻膠,暴露在紫外線下的區域會改變結構,變得更容易溶解從而為刻蝕和沉積做好準備。負性光刻膠則正好相反,受光照射的區域會聚合,這會使其變得更難溶解
2022-04-08 15:12:41
光刻技術中,涂有光刻膠的硅片與掩膜版直接接觸.由于光刻膠和掩膜版之間緊密接觸,因此可以得到比較高的分辨率.接觸式暴光的主要問題是容易損傷掩膜版和光刻膠.當掩膜版與硅片接觸和對準時,硅片上很小的灰塵
2012-01-12 10:56:23
半導體材料市場構成:在半導體材料市場構成方面,大硅片占比最大,占比為32.9%。其次為氣體,占比為14.1%,光掩膜排名第三,占比 為12.6%,其后:分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設靶材,比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
噴膠機是現代光電子產業中光刻膠涂布的重要設備。可對不同尺寸和形狀的基片進行涂膠,最大涂膠尺寸達8寸,得到厚度均勻的光刻膠層,同時可對大深寬比結構的側壁進行均勻涂膠;通過計算機系統控制器進行工藝參數的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
了優化的制作倒臺面結構的光刻膠圖形的工藝參數:勻膠轉速4 000 r / min,前烘溫度100 ℃,時間60 s,曝光時間0?3 s,反轉烘溫度110 ℃,時間90 s,泛曝光時間2 s,顯影時間
2009-10-06 10:05:30
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
一.工藝流程簡述: 前段工位: ITO 玻璃的投入(grading)—— 玻璃清洗與干燥(CLEANING)——涂光刻膠(PR COAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP
2016-06-30 09:03:48
涂敷光刻膠 光刻制造過程中,往往需采用20-30道光刻工序,現在技術主要采有紫外線(包括遠紫外線)為光源的光刻技術。光刻工序包括翻版圖形掩膜制造,硅基片表面光刻膠的涂敷、預烘、曝光、顯影、后烘、腐蝕
2019-08-16 11:11:34
膠的曝光部分結構被破壞,被溶劑洗掉,使得光刻膠上的圖形與掩模版上圖形相同。相反地,在負性光刻中,負膠的曝光部分會因硬化變得不可溶解,掩模部分則會被溶劑洗掉,使得光刻膠上的圖形與掩模版上圖
2020-07-07 11:36:10
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
為滿足電磁型平面微電機對定子繞組線圈的高深寬比及厚度要求,提出一種利用AZ4903光刻膠制作電磁平面微電機定子繞組的方法。通過反復摸索,得到了該光刻膠的較理想_的轉速一
2009-06-29 14:20:28
53 PMT-2離線光刻膠微粒子計數器是一款新型液體顆粒監測儀器。采用激光光散或光阻原理的顆粒檢測傳感器,可以對超純水、自來水、飲用水、去離子水、礦泉水、蒸餾水、無機化學品、有機化學品、有機溶劑、清洗劑
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在線光刻膠液體粒子計數器,采用英國普洛帝核心技術創新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙精準流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統,可以對清洗劑、半導體、超純水
2023-01-03 15:54:49
光刻膠(光敏膠)進行光刻,將圖形信息轉移到基片上,從而實現微細結構的制造。光刻機的工作原理是利用光學系統將光線聚焦到光刻膠上,通過掩膜版(也稱為光刻掩膜)上的圖形
2023-07-07 11:46:07
光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 這是一種老式的旋轉涂膠機,將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:37
18498 干膜光刻膠是由預先配制好的液態光刻膠(Photoresist)在精密的涂布機上和高清潔度的條件下均勻涂布在載體聚酯薄膜(PET膜)上,經烘干、冷卻后,再覆上聚乙烯薄膜(PE膜),收卷而成卷狀的薄膜型光刻膠。
2019-01-30 16:49:14
10707 ![](https://file.elecfans.com/web1/M00/84/A7/pIYBAFxRZS2AbUIMAAAbq2gbavQ793.jpg)
在國家政策與市場的雙重驅動下,近年來,國內企業逐步向面板、半導體光刻膠發力……
2019-04-23 16:15:36
12831 ![](https://file.elecfans.com/web1/M00/8F/30/o4YBAFy-yWqAUZ19AAAcm-tBxNM760.png)
近日,日本對韓國進行出口限制,光刻膠材料赫然在列。
2019-07-15 09:28:49
3498 7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設立光刻膠事業部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中,預計2019年底建成一條光刻膠生產線,項目產業化基地建設順利。
2019-07-18 16:14:59
4862 預計2019年底建成一條光刻膠生產線,項目產業化基地建設順利。
2019-07-19 14:08:30
5317 從經開區企業北京欣奕華科技有限公司(以下簡稱“欣奕華”)了解到,經過多年的行業累積和技術迭代,欣奕華在平板顯示用負性光刻膠領域實現了量產,預計今年將有1000噸的光刻膠交付用戶,約占國內市場的8%。
2019-10-28 16:38:49
3761 近日,上海新陽在投資者互動平臺上表示,公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內安裝開始調試,ARF193nm光刻膠配套的光刻機預計12月底到貨。
2019-12-04 15:24:45
7942 今年7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設立光刻膠事業部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中,預計2019年底建成一條光刻膠生產線,項目產業化基地建設順利。
2019-12-16 13:58:52
7318 隨著電子信息產業發展的突飛猛進,光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規模預計接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預計未來3年仍以年均5%的速度增長,預計至2022年全球光刻膠市場規模將超過100億美元。
2020-03-01 19:02:48
4098 在國際半導體領域,我國雖已成為半導體生產大國,但整個半導體產業鏈仍比較落后。特別是由于國內光刻膠廠布局較晚,半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大,國產化不足5%。在這種條件下,國內半導體廠商積極開展研究,如晶瑞股份的KrF光刻膠,南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:56
4165 光刻膠按應用領域分類,大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導體光刻膠等。按照下游應用來看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻膠占比24.5%,半導體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:39
5380 等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。依據使用場景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。 據第三方機構智研咨詢統計,2019年全球光刻膠市場規模預計近90億美元,
2020-09-15 14:00:14
16535 全球光刻膠市場規模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元,年復合增長率達6.3%;應用方面,光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域,各占約25%市場份額。
2020-09-21 11:28:04
3290 ![](https://file.elecfans.com/web1/M00/C7/7A/pIYBAF9oHL6Abp0rAABFdZx5yyk303.png)
全球光刻膠市場規模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元,年復合增長率達6.3%;應用方面,光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域,各占約25%市場份額。 國內光刻膠整體
2020-10-10 17:40:25
2957 、電子束、準分子激光束、X射線、離子束等曝光源的照射或輻射,從而使光刻膠的溶解度發生變化。 按照應用領域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學品(光引發劑和樹脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發劑、半導
2022-12-06 14:53:54
1238 文|Lee 集微網消息,近期,晶瑞股份因購買ASML光刻機設備受到了資本市場的熱捧,也收到了深交所下發的關注函。深交所重點關注了晶瑞股份本次購買光刻機設備的具體用途、資金來源以及本次購買光刻機事項
2020-10-21 10:32:10
4139 光刻膠是微納加工過程中非常關鍵的材料。有專家表示,中國要制造芯片,光有光刻機還不夠,還得打破國外對“光刻膠”的壟斷。
2020-12-08 10:53:56
4168 ? 導 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發的 ArF 光刻膠產品成功通過客戶使用認證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告
2020-12-25 18:24:09
6227 近期,專注于電子材料市場研究的TECHCET發布最新統計和預測數據:2021年,半導體制造所需的光刻膠市場規模將同比增長11%,達到19億美元。
2021-03-22 10:51:12
5081 按照應用領域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學品(光引發劑和樹脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發劑、半導體光刻膠光引發劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導體光刻膠。
2021-05-17 14:15:52
4011 ![](https://file.elecfans.com/web1/M00/EF/CD/pIYBAGCiD4qAbwE2AAAT2C3GcsA816.jpg)
由于KrF光刻膠產能受限以及全球晶圓廠積極擴產等,占據全球光刻膠市場份額超兩成的日本供應商信越化學已經向中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠,且已通知更小規模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠
2021-06-25 16:12:28
784 大漲9.72%,雅克科技大漲9.93%,強力新材、上海新陽、彤程新材等跟漲。 光刻膠板塊的大漲吸引了產業注意 ,國產光刻膠再遇發展良機? KrF光刻膠海外供應告急 據了解,光刻膠板塊本輪異動的背后,是KrF光刻膠海外供應告急。自日本福島2月份發生強震后,光刻膠市場一度傳
2021-05-28 10:34:15
2623 光刻膠是光刻機研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
11281 來源:?果殼硬科技 1、光刻膠究竟是怎樣一個行業? 光刻膠,又稱“光致抗蝕劑”,是光刻成像的承載介質,可利用光化學反應將光刻系統中經過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量,從而把微細圖形從掩模版轉移到
2022-01-20 21:02:46
1208 ![](http://file.elecfans.com/web2/M00/2E/39/poYBAGHpUmGAKh2mAAC31F4NbwI264.png)
摘要 我們華林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22
687 ![](http://file.elecfans.com/web2/M00/2E/DC/poYBAGHwwymAQPEJAADZB6yRgnQ724.png)
什么是光刻?光刻是將掩模上的幾何形狀轉移到硅片表面的過程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗;阻擋層的形成;光刻膠應用;軟烤;掩模對準;曝光和顯影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:02
850 ![](https://file.elecfans.com//web2/M00/36/06/pYYBAGIwChqAXcM1AACDVmjr3O0898.png)
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23
756 ![](https://file.elecfans.com//web2/M00/37/8D/poYBAGI8JgeAXzaJAABNWkcqTTs533.jpg)
本發明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細地說,是一種半導體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中,將殘留在晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:42
872 ![](https://file.elecfans.com//web2/M00/3C/E7/pYYBAGJWZhyAHT4JAAIzx45amRA117.png)
這項研究首先集中于去除直接沉積在硅襯底上的193納米厚的光刻膠和BARC層,使用傅里葉變換紅外光譜(FTIR)和橢圓偏振光譜(SE)來評估去除效率,在第二部分中,研究了金屬硬掩模/多孔低k鑲嵌結構
2022-05-30 17:25:24
1115 ![](https://file.elecfans.com/web2/M00/46/8A/pYYBAGKUjXeAFBB5AADc4x5cBIk397.png)
灰化,簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳氫有機物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:17
4871 光刻膠產品說明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:25
2 南大光電最新消息顯示,國產193nm(ArF)光刻膠研發成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發出數十種高端光刻膠產品系列,包括
2022-08-31 09:47:14
1285 光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學性質(如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等);感光劑,感光劑對光能發生光化學反應;溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:04
15831 半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產品,海外進口依賴較重,不同品質之間價 格差異大。以國內 PAG 對應的化學放大型光刻膠(主要是 KrF、ArF 光刻膠)來看,樹脂在 光刻膠中的固含量
2022-11-18 10:07:43
2574 光刻膠是IC制造的核心耗材,技術壁壘極高。根據TECHCET數據,預計2022年全球半導體光刻膠市場規模達到23億美元,同比增長7.5%,2025年超過25億美元。
2023-03-21 14:00:49
2095 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發,必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰,imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:12
1165 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發生化學反應,從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關,而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15
271 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AB/B6/wKgZomU3Pg2ADqcwAAAOwctILhY938.jpg)
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11
571 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/AD/FF/wKgaomVR94eAeaRHAAARFLv3TbA597.jpg)
20日,西隴科學(株)發布公告稱,該公司沒有生產銷售礦產品。公司生產及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營業收入的比例,是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57
315 為了生產高純度、高質量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如,2019年,某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48
550 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產中。
2023-11-29 10:28:50
284 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B1/BB/wKgaomVmpMiABBoJAABtvKUPkow175.png)
光刻膠類別的多樣化,此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品,也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36
409 勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數,那么我們在勻膠時,是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質?
2023-12-15 09:35:56
442 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/B5/87/wKgaomV7rkyAHKezAAARTuC2MZw934.png)
所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會產生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關鍵要素,廣泛應用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多,此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠,將成為各廠商關注的焦點。
2023-12-28 11:14:34
381 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規模持續提升,中國有望承接半導體
2024-01-19 08:31:24
340 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/89/15/wKgZomR4VviAfw6rAAAXZRIaLRI974.png)
據吳中發布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15億元,旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:43
208 光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:16
132 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C3/6A/wKgaomXlNx6AMNUjAAAza8SNHDw028.png)
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18
402 與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50
200 ![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C5/18/wKgZomX6WoSAJ_o_AABHCGT3woM179.png)
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