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PCB內(nèi)層和外層蝕刻方法

電子設計 ? 來源:工程師曾玲 ? 2019-09-14 11:17 ? 次閱讀

PCB蝕刻是從電路板上去除不需要的銅(Cu)的過程。當我說不需要的時候,它只不過是從電路板上移除的非電路銅。結(jié)果,實現(xiàn)了所需的電路圖案。

換句話說,蝕刻就像鑿開電路板一樣。如果你能像藝術家一樣思考,那么這塊木板就是一塊石頭,蝕刻鑿巖石成為一個美麗的雕塑。在此過程中,從電路板上除去基礎銅或起始銅。與電鍍銅相比,軋制和退火銅易于蝕刻。

在蝕刻過程之前,準備布局,以便最終產(chǎn)品符合設計者的要求。設計人員所需的電路圖像通過一個名為Photolithography的過程傳輸?shù)絇CB上。這形成了決定必須從板上除去哪一部分銅的藍圖。

內(nèi)層和外層蝕刻有兩種不同的方法。在外層蝕刻工藝中,鍍錫用作蝕刻抗蝕劑。然而,在內(nèi)層,光刻膠是抗蝕劑。

濕PCB蝕刻方法

濕蝕刻是一種蝕刻工藝,其中不需要的材料在浸入化學溶液時會被溶解。

PCB制造商根據(jù)所使用的蝕刻劑共同使用兩種濕法蝕刻方法。

酸性蝕刻(氯化鐵和氯化銅)。

堿性蝕刻(氨化)

這兩種方法各有利弊。

酸性蝕刻工藝

酸性方法用于蝕刻掉PCB中的內(nèi)層。該方法涉及化學溶劑,如氯化鐵(FeCl3)或氯化銅(CuCl2)。與堿性方法相比,酸性方法更精確,更便宜但耗時。該方法用于內(nèi)層,因為酸不與光致抗蝕劑反應并且不會損壞所需的部分。此外,這種方法中的底切是最小的。

為了在底切上投射一些光,底切是保護層下面的蝕刻材料的橫向侵蝕。當溶液撞擊銅時,它會攻擊銅并留下受到電鍍蝕刻抗蝕劑或光成像抗蝕劑保護的軌道。在軌道邊緣,抗蝕劑下面總是有一些銅被去除,這被稱為底切。

PCB內(nèi)層和外層蝕刻方法

堿性蝕刻工藝

堿性方法用于蝕刻PCB中的外層。這里,所用的化學品是氯化銅(CuCl2 Castle,2H2O)+鹽酸鹽(HCl)+過氧化氫(H2O2)+水(H2O)組合物。堿性方法是一個快速的過程,也有點貴。必須嚴格遵守此過程的參數(shù),因為如果接觸較長時間,溶劑會損壞電路板。該過程必須得到很好的控制。

整個過程在一個傳送帶式高壓噴霧室中實施,其中PCB暴露在更新的蝕刻劑噴霧中。在PCB蝕刻過程中要考慮的重要參數(shù)是面板移動的速率,化學品的噴射以及要蝕刻掉的銅的量。這確保了蝕刻過程均勻地完成了直邊壁。

PCB內(nèi)層和外層蝕刻方法

在蝕刻過程中,不需要的銅的蝕刻點是complete稱為斷點。這通常在噴霧室的中點處實現(xiàn)。例如,如果您認為噴霧室長度為2米,那么當電路板達到中點即1米時,將實現(xiàn)斷點。

最終產(chǎn)品將具有符合設計者規(guī)格的電路。此后不久,董事會將進一步處理以進行剝離。剝離工藝從電路板表面去除電鍍錫或錫/鉛或光刻膠。

因此,這是關于PCB制造單元中蝕刻工藝如何發(fā)生的內(nèi)幕故事。希望這篇文章能夠讓您感覺不到蝕刻。

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