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功率氮化鎵技術及電源應用熱管理設計挑戰

電子設計 ? 來源:powerelectronicsnews ? 作者:Dilder Chowdhury ? 2021-03-16 11:26 ? 次閱讀

來自社會的壓力越來越大,有關減少CO2排放的法規越來越多,這正推動著從汽車到電信行業的投資,以提高電力轉換效率和電氣化程度。諸如絕緣柵雙極晶體管IGBT)之類的傳統基于硅的功率半導體技術從根本上限制了工作頻率,速度,并且具有較差的高溫性能和低電流特性。高壓Si FET的頻率和高溫性能也受到限制。因此,設計人員越來越希望在高效的銅夾封裝中使用寬帶隙(WBG)半導體。

功率氮化鎵技術

過去幾年中,GaN技術,特別是硅上GaN(硅上GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)技術已成為電源工程師的主要重點。提供許多應用所要求的高功率性能和高頻開關的承諾是顯而易見的。

在采用帶引線的TO-247封裝中采用共源共柵模式技術之后,市場上出現了許多趨勢,這些市場朝著RDS(開啟),更好的開關品質因數(FOM)和更低的電容方面的改進方向發展。

當涉及到器件穩定性和易操作性時,共源共柵配置可提供硅柵極的堅固且可靠的絕緣(電介質)柵極結構。這意味著共源共柵GaN FET具有±20 V的有效柵極額定值(等于現有的硅超結技術),并且可以由標準的具有成本效益的柵極驅動器以簡單的0-10或12 V驅動電壓來驅動,同時提供較高的柵極閾值4V的電壓可防止誤導通。

圖1:GaN FET的雙向特性

CCPAK:具有久經考驗的新型動力套件

自然地,GaN技術和操作模式是關鍵,但與任何FET器件封裝一樣,它都起著至關重要的作用。隨著市場轉向更高的開關頻率,傳統封裝(TO-220 / TO-247和D2PAK-7)的局限性越來越明顯。為了真正利用新型高壓WBG半導體的優勢,銅夾技術將優化電性能和熱性能。

圖2:CCPAK1212的內部布置

Nexperia提出了CCPAK封裝,以為Power GaN FET解決方案提供銅夾的優勢。CCPAK1212相當于TO-247機身尺寸的約五分之一(21.4%),或者比D2PAK-7緊湊的占地面積小10%,同時允許使用更低的Rdson產品

通過消除內部引線鍵合,CCPAK的電感比含鉛封裝的電感低。圖3中的表突出顯示了CCPAK1212和TO-247工作在100 MHz時的比較,這導致總環路電感為2.37 nH,而幾乎為14 nH。但是,銅夾式封裝還有助于提供超低封裝電阻,包括<0.5 K / W的熱阻。

圖3:自感@頻率100 MHz

熱性能和半橋優勢

長期以來,熱管理一直是電源應用的設計挑戰。當設計中有用于容納大體積散熱器的空間時,將熱量從電路板和半導體組件中帶走相對容易。但是,隨著功率水平以及功率和電路密度的增加,這變得更加難以處理。

GaN和銅夾在熱容量和熱導率方面創造了650 V大功率FET的技術組合。

根據圖4中的仿真,工程師估計CCPAK的Rth僅為0.173°C / W,而TO-247的Rth為0.7°C / W。

圖4:熱仿真功率GaN FET(圖5)

無論是AC / DC PFC級,DC / DC轉換器還是牽引逆變器,大多數拓撲的基本構建模塊都是半橋。因此,在簡單的升壓轉換器中將GaN FET與Si FET進行比較時,GaN技術表現出了卓越的性能。

Nexperia的頂部冷卻GAN039-650NTB是半橋演示板中使用的解決方案-100 kHz時400 VIN和230 VOUT,占空比為57.4%,在環境溫度23.1°C下工作。

圖5:半橋演示效率

在ID為20 A的低端VDS的400 VDC降壓模式設置中,在接通和關斷期間,尖峰,過沖和振鈴幾乎可以忽略不計。這在噪聲和任何與硅相關的Qrr問題方面均具有優勢,效率結果為99%

圖6:CCPAK1212開關波形

編輯:hfy

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