ASML下一代EUV光刻機延期：至少2025年
ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。
雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻機的出貨不及預期的35臺，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規(guī)模應用，意味著要延期了。
此前信息顯示，ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣，大規(guī)模量產(chǎn)是2024-2025年間。
ASML的EUV光刻機目前主要是NEX:3400B/C系列，NA數(shù)值孔徑是0.33，下一代EUV光刻機是NEX:5000系列，可將NA提升到了0.55，意味著光刻機的分辨率提升了70%。（注：NA越高，光刻機精度越高）
目前的EUV光刻機可以用于制造7nm到3nm工藝的芯片，下代EUV光刻機則是針對3nm以下的節(jié)點，2nm甚至未來的1nm工藝都要用到NA 0.55的EUV光刻機。
責任編輯：PSY
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
量產(chǎn)
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
78瀏覽量
23151 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
720瀏覽量
41350 -
EUV光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
128瀏覽量
15186
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
日本首臺EUV光刻機就位
本月底完成。 Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片，于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù)，可形成超精
光刻機巨頭拋出重磅信號 阿斯麥（ASML）股價大幅上漲
在2024年投資者會議上，光刻機巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價開始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布，預計2030
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款Hi
發(fā)表于 10-31 10:56
?859次閱讀
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機，將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據(jù)報道，ASML預計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機（EUV
后門！ASML可遠程鎖光刻機！
來源：國芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報道，臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機，暗藏后門，可以在必要的時候執(zhí)行遠程鎖定！ 據(jù)《聯(lián)合早報》報道，荷蘭方面在
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機，并且已成功印刷出10納米線寬圖案，這一重大突破標志著半導體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進了
英特爾突破技術(shù)壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作，以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
阿斯麥(ASML)公司首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機實現(xiàn)突破性成果
)光刻機，并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一重要成就，不僅標志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度，也為全球半導體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機。目前，全球僅有兩臺高數(shù)值孔徑EUV
光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式
發(fā)表于 03-21 11:31
?6788次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
EUV 光刻機持續(xù)更新升級，未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D
傳光刻機巨頭ASML要搬離荷蘭？
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。
三星清空ASML股份，11年盈利超16倍
根據(jù)資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機的優(yōu)先
工商網(wǎng)監(jiān)
評論