探究光刻機微影技術是通過什么實現的？
編輯：jq
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關注
關注
31文章
1158瀏覽量
47583
原文標題：干貨 | 光刻機微影技術是通過什么實現的？
文章出處：【微信號：wc_ysj，微信公眾號：旺材芯片】歡迎添加關注！文章轉載請注明出處。
發布評論請先 登錄
相關推薦
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備，它的工作原
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
時，摩爾定律開始面臨挑戰。一些光刻機巨頭選擇了保守策略，寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術。2002年，浸潤式光刻的構想被提出，即利用水作為介質，
光刻機的工作原理和分類
，是半導體產業皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高，光刻機通過一系列復雜的技術手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖
一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、
一文了解光刻機成像系統及光學鍍膜技術
高端光刻機研發是一個系統工程，涉及到各方面技術的持續改進和突破，在材料科學方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發，在精密光學領域涉及精密光學加工技術、鍍膜技術、光學集成裝配
微流控光刻掩膜制作
計算機圖形軟件設計微通道，?并將設計圖形轉換為圖形文件。?這些設計圖形隨后被用于指導掩膜版的制作。? 在制版階段，?設計好的圖形通過直寫光刻設備（?如激光直寫光刻機或電子束
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發表于 03-21 11:31
?6796次閱讀
ASML光刻機技術的領航者，挑戰與機遇并存
ASML在半導體產業中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
發表于 03-05 11:26
?1428次閱讀
工商網監
評論