光刻機，是現代光學工業之花，是半導體行業中的核心技術。

可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位，光刻機，是制造芯片的機器，要是沒有了光刻機，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就不會有我們現在的手機、電腦了。

光刻機是用于芯片制造的核心設備，按照用途可以分為用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領域的投影光刻機。

光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現在芯片的線條精度已發展到10nm級別，而較大的原子直徑是將近1nm，我們把芯片放在電子顯微鏡下即可清晰地數出每個線條上有幾個原子，“調節屈光度”是典型的幾何光學（初等光學）概念，遠遠實現不了這個精度。

幾何光學中，我們認為光是一條條“光線”，所以可以用透鏡等比例縮放。隨著人們更深入的了解，發現光其實是連續的“光波”，并不按直線傳播。再后來，人們發現光是一個個“粒子”（愛因斯坦因此獲得諾貝爾獎）再后來，人們發現光粒子具有“波粒二象性”，還具有量子效應。整個過程中，光的物理特性沒有改變。而是隨著人們觀察得越來越細致、越來越精密，逐步發現了光的特性。

文章綜合來源：yxlady

編輯：ymf