據(jù)外媒報(bào)道稱,三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機(jī)廠商ASML,此舉表明三星很有可能會(huì)大量采購(gòu)光刻機(jī)。
據(jù)了解,李在镕將會(huì)在荷蘭待上11天,此次花費(fèi)十多天前往荷蘭拜訪ASML,有多家媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。
目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造,而本來(lái)EUV光刻機(jī)就稀少,因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因此現(xiàn)在的三星急需擴(kuò)充芯片產(chǎn)能和發(fā)展先進(jìn)芯片技術(shù)。
這也就能夠合理的解釋三星為什么要特意花費(fèi)十多天去拜訪ASML了,只要盡可能多的爭(zhēng)取到EUV光刻機(jī)數(shù)量,那么自身先進(jìn)芯片研發(fā)制造方面也就能夠得到進(jìn)步,并且能夠在多家同行廠商的競(jìng)爭(zhēng)中取得較大的優(yōu)勢(shì)。
綜合整理自 21ic電子網(wǎng) 秒看科技界 PConline
審核編輯 黃昊宇
-
三星電子
+關(guān)注
關(guān)注
34文章
15875瀏覽量
181330 -
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1157瀏覽量
47580 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
720瀏覽量
41350
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?
光刻機(jī)的分類與原理
![<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理](https://file1.elecfans.com/web3/M00/06/31/wKgZO2eIYcyAW_gKAAAUpXb0WME789.png)
今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
三星李在镕會(huì)見科技巨頭,探討未來(lái)合作
今日看點(diǎn)丨ASML今年將向臺(tái)積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機(jī)質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應(yīng)
Rapidus對(duì)首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機(jī)
后門!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!
臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)
李在镕會(huì)長(zhǎng)訪問蔡司總部,強(qiáng)化半導(dǎo)體技術(shù)和高端設(shè)備合作
ASML發(fā)貨第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),已成功印刷10nm線寬圖案
英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝
阿斯麥(ASML)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果
![阿斯麥(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>實(shí)現(xiàn)突破性成果](https://file1.elecfans.com/web2/M00/CC/91/wKgZomYgmJWAFUeBAADFoV4c-vQ223.png)
ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝
![<b class='flag-5'>ASML</b> 首臺(tái)新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C6/5B/wKgaomX9RiaAfj10AAAiyPALC48881.jpg)
評(píng)論