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在片測試新材料帶來的挑戰(zhàn)

芯睿半導(dǎo)體 ? 來源:芯睿半導(dǎo)體 ? 2023-05-30 14:28 ? 次閱讀

日益增長的耗電量

系統(tǒng),汽車,消費(fèi)電子產(chǎn)品,便攜式電子產(chǎn)品以及與物聯(lián)網(wǎng)的新連接對能源效率的更大需求正在持續(xù)推動(dòng)功率半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展,同比需求創(chuàng)歷史新高。

因此,世界各地的公司和代工廠正在提升功率產(chǎn)品的測試能力,涵蓋了研發(fā),高性能產(chǎn)品的生產(chǎn)以及量產(chǎn)。下一代的功率產(chǎn)品也在被快速的研發(fā),以實(shí)現(xiàn)減少成本及支持不斷增長的廣泛應(yīng)用需求。

根據(jù)行業(yè)報(bào)告,電力電子設(shè)備中68%的功率器件在2017年用于低壓應(yīng)用(<900 V)。剩余的功率器件部分(32%)在發(fā)生顯著增長的情況下,按電壓不同被分成如下等級:中等(1 - 1.9 kV),高(2 - 3.3 kV)和非常高(> 3.3 kV)電壓應(yīng)用。*

電動(dòng)車輛和運(yùn)輸工具是功率半導(dǎo)體器件/模塊的使用正在擴(kuò)展的兩個(gè)領(lǐng)域。在高溫(300 - 400°C)下需要處理更高的電流(200 - 400 A)和更高的電壓(3.3 - 10 kV),以滿足新的可靠性和性能規(guī)范。這需要廣泛的產(chǎn)品特性的研發(fā)和生產(chǎn)測試的開發(fā)。

工程師面臨的一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)是在片測試而不是封裝測試。FormFactor已經(jīng)在在片功率半導(dǎo)體產(chǎn)品測試中發(fā)揮了重要作用

新時(shí)代的新材料

目前,98.7%的功率半導(dǎo)體產(chǎn)品是使用硅襯底材料制造的。然而,存在從Si到寬帶隙襯底材料(GaN和SiC)的轉(zhuǎn)變,這有望實(shí)現(xiàn)功率器件性能的顯著提高。在未來四到五年內(nèi),預(yù)計(jì)這些材料的使用量將增長3.9%(17億美元)。*

通常,SiC和GaN高功率半導(dǎo)體可以在更高的溫度下工作并且具有更高的效率。具體而言,用于更快的切換的GaN以及用于更高溫度的SiC的研究和開發(fā)是有意義的。支持更高工作溫度的產(chǎn)品可以提高可靠性,如用于電動(dòng)車輛;而支持更快切換的產(chǎn)品則可以降低功耗?;贕aN和SiC的產(chǎn)品都可以比基于Si的產(chǎn)品更小,以便于其封裝到更小的消費(fèi)產(chǎn)品中。

雖然GaN和SiC功率半導(dǎo)體(橫向和垂直結(jié)構(gòu))的在片測試方法與Si產(chǎn)品類似,但這些新型寬帶隙產(chǎn)品需要擴(kuò)展的測試能力。

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何時(shí)必須簡化測試復(fù)雜性

功率半導(dǎo)體產(chǎn)品通常用作功率電子電路中的開關(guān)或整流器。這些通常被稱為電源設(shè)備,電源IC電源模塊。一些常見的功率器件包括功率二極管,功率MOSFETIGBT(絕緣柵雙極晶體管)。

當(dāng)工程師和設(shè)計(jì)師開發(fā)下一代產(chǎn)品時(shí),他們需要在測試期間收集關(guān)鍵參數(shù)。其中包括以下功率半導(dǎo)體器件參數(shù):

擊穿電壓

低漏電@高壓

導(dǎo)通電阻RDS(on)*用于高電流

切換的上升和下降時(shí)間

安全工作區(qū)(散熱和“閂鎖效應(yīng)”)

熱阻

然而,當(dāng)在晶片上而不是封裝內(nèi)測試Si和先進(jìn)的GaN / SiC產(chǎn)品時(shí),研發(fā)工程師和測試人員面臨的主要挑戰(zhàn)是采集高精度的數(shù)據(jù)。其要求在高壓下的防電弧能力,高電流下探針與晶圓的低接觸電阻以及減薄的晶圓的處理能力。簡而言之,“快速獲取精確數(shù)據(jù)”要求快速而簡單的完成對復(fù)雜高功率器件測試系統(tǒng)的設(shè)置。并且,始終關(guān)注人員與器件的安全。

*“RDS(on)”代表MOSFET中的“漏極 - 源極導(dǎo)通電阻”。

挑戰(zhàn)

高電壓防電弧
通常,當(dāng)測試晶圓上的高電壓時(shí),探針之間將存在放電(電?。?,這也發(fā)生在DUT(被測器件)和相鄰器件(垂直布局)或其他測試pad(橫向布局)之間。此外,在高于1000 V的電壓下,晶圓載物臺(tái)和周圍探針臺(tái)之間可能發(fā)生電弧放電。

探針與器件的低接觸電阻
實(shí)現(xiàn)精確高電流測量的另一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)是盡可能降低探針與器件的接觸電阻。這將確??梢栽诰A上測量到器件的完整性能,并與封裝器件性能完全一致。這使得用于終端的應(yīng)用電源模塊的已知良好芯片(KGD)的成本顯著降低。

晶圓和載物臺(tái)之間的均勻接觸和熱阻
為了獲得晶片上每個(gè)器件的準(zhǔn)確數(shù)據(jù),重要的是在晶片背面和卡盤頂面之間具有均勻的物理接觸。首先,這可以通過確保從器件產(chǎn)生的全部熱量遠(yuǎn)離每個(gè)器件來分散熱誤差,而不管晶片上的器件位置如何。其次,對于卡盤作為電觸點(diǎn)之一的垂直器件(如IGBT),這可實(shí)現(xiàn)超低接觸電阻 - 這是克服RDS(on)非開爾文測試的電阻誤差的關(guān)鍵需求。只有解決了這兩個(gè)挑戰(zhàn),才能在測試數(shù)據(jù)中看到每個(gè)設(shè)備的最大性能。

電路設(shè)計(jì)師的精確器件模型
產(chǎn)品特性分析工程師面臨的挑戰(zhàn)是同時(shí)滿足測量高電壓/高電流的能力和精確的低漏電性能,以創(chuàng)建完整的器件模型。這將有助于電路設(shè)計(jì)人員優(yōu)化其功率IC設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)最大的商業(yè)價(jià)值。平衡高電壓/電流切換與在不工作時(shí)(斷開狀態(tài))器件功耗是這項(xiàng)工作的重點(diǎn)。

FormFactor與關(guān)鍵設(shè)備制造商一起解決了這些測試挑戰(zhàn),并繼續(xù)為行業(yè)提供準(zhǔn)確數(shù)據(jù)和降低測試成本的保證解決方案。

TESLA200 -完整準(zhǔn)確的大批量數(shù)據(jù)處理的測試環(huán)境

FormFactor開發(fā)了TESLA200高級晶圓功率半導(dǎo)體探針臺(tái)系統(tǒng),是一款專門為功率半導(dǎo)體器件研究人員,設(shè)備/測試工程師和制造經(jīng)理/操作員設(shè)計(jì)的系統(tǒng)。

TESLA200在保證操作人員安全的前提下,可以采集準(zhǔn)確的高壓和高電流測量數(shù)據(jù)。測試可以在單個(gè)或批量的減薄晶圓上進(jìn)行,應(yīng)用于研發(fā)、產(chǎn)品特性分析/建模、小批量生產(chǎn)的快速的測試。

除了超低漏電產(chǎn)品測試外,TESLA200還可以輕松設(shè)置和增加新的測試功能,用于靜態(tài)和動(dòng)態(tài)高功率測量。該系統(tǒng)可支持-55°至300°C及更高溫度的應(yīng)用。

多種抗電弧技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高達(dá)10,000V DC高壓測試性能,并實(shí)現(xiàn)對產(chǎn)品的完美保護(hù)。此外,在片測試系統(tǒng)中集成了極低的接觸電阻/熱阻材料和技術(shù),可實(shí)現(xiàn)高達(dá)600A的最佳的高電流測量。

FormFactor通過各種高壓和高電流探針以及防電弧探針卡完善了解決方案。提供用于工程和生產(chǎn)的高功率測試設(shè)備。

可提供手動(dòng),半自動(dòng)和最新的全自動(dòng)版本,以便最快速地獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:在片測試新材料帶來的挑戰(zhàn)

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