asml發(fā)言人表示，雖然出口限制規(guī)定從今年9月開始實行，但公司截至年底已經獲得了對在中國受到限制的半導體制造設備的出口許可證。

據彭博社31日報道，美國對中國限制尖端技術出口的努力正在損害asml的利益。中國是asml的第三大市場。美國政府敦促荷蘭政府禁止asml在沒有許可證的情況下向中國出口侵入式duv***，新的限制規(guī)定于9月1日正式生效。

asml發(fā)言人表示：“從9月開始的4個月時間里，asml可以盡到與中國客戶簽訂合同的義務。但在沒有獲得新的出口許可證的情況下，將從1月份開始向中國出口3款先進的浸入式‘深度紫外線***（DUV）。”

荷蘭通過今年6月末公布的新的出口控制措施，要求半導體制造企業(yè)在出口部分尖端紫外線面板（duv）系統(tǒng)時申請出口許可。據了解內情的人士透露，在新規(guī)定生效之前，中國半導體制造企業(yè)一直爭相購買重要設備。根據海關數據，從今年到現在，中國從荷蘭進口的這類設備已經超過了2022年全年的總量。

該規(guī)定包含了芯片制造技術中非常先進的部分設備，其中包括深度紫外線光刻（duv）和原子層沉積設備。asml表示，該公司的最新duv設備符合新規(guī)定，但主要duv設備不符合新規(guī)定。該公司從2019年開始禁止向中國出口更先進的euv（極紫外線）光板。