電遷移是金屬線在電流和溫度作用下產生的金屬遷移現象——運動中的電子和主體金屬晶格之間相互交換動量,金屬原子沿電子流方向遷移時,就會在原有位置上形成空洞,同時在金屬原子遷移堆積形成丘狀突起。
前者將引線開路或斷裂,而后者會造成光刻困難和多層布線之間的短路,從而影響芯片的正常工作。
為更好地滿足客戶EM測試需求,季豐電子提供EM測試樣品制備服務,樣品外形涵蓋DIP8、DIP16、DIP24、DIP28等。
工藝可靠性電遷移(EM)測試
芯片經過長時間高溫、大電流(密度),容易引起金屬線metal-line或連接通孔Via失效,測試環境250~300°。
測試流程是通過在施加溫度和電流時測量電阻,直至該顆測試樣品達到設定電阻變化,被判定失效發生,測試實驗終止。
樣品制備流程:晶圓減薄劃片-陶瓷管殼打線
陶瓷管殼焊線材質一般用金線和鋁線,以下將2種材質的樣品進行對比:
1. 陶瓷管殼封裝-Au wire 實驗溫度條件 250°C
(FApictureofAubond)
2. 陶瓷管殼封裝-Alwire實驗溫度條件250°C
當溫度處于250°C,時間達到48小時,頂部金屬擴散到Au和Al襯底,會引起測試結構Open。
EM測試時需要250°以上高溫,使用鋁線制備EM樣品最佳。
審核編輯:劉清
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原文標題:工藝可靠性電遷移EM測試-樣品制備
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