衡阳派盒市场营销有限公司

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

化學氣相沉積與物理氣相沉積的差異

美能光伏 ? 2023-12-26 08:33 ? 次閱讀

太陽能電池薄膜沉積工藝中,具有化學氣相沉積(CVD)與物理氣相沉積(PVD)兩種薄膜沉積方法,電池廠商在沉積工藝中也需要根據太陽能電池的具體問題進行針對性選擇,并在完成薄膜沉積工藝后通過高科技的檢測設備來進行系統檢測。為此,「美能光伏」生產了美能四探針電阻測試儀,該設備可獲得不同樣品位置的方阻/電阻率分布信息,并最大對220mm的樣品進行快速、自動的掃描,從而評估其電池是否達到理想的光電轉換率。

化學氣相沉積與物理氣相沉積的差異化學氣相沉積與物理氣相沉積雖然都是利用氣相中的物質固體表面上形成薄膜的過程,但是它們在原理、特點和應用方法會有所不同。

化學氣相沉積與物理氣相沉積的原理差異化學氣相沉積的原理是利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生化學反應,生成固態沉積物,并在基體表面上形成薄膜。化學氣相沉積的反應物質通常是含有目標元素的化合物,例如SiH4、NH3、CH4等,它們在一定的溫度、壓力和催化劑的作用下,在基體表面上分解或反應,釋放出氫氣或其他副產物,同時沉積出目標元素或化合物。CVD的反應可以在常壓或低壓下進行,也可以利用等離子體或光輻射等方法增強反應活性。

物理氣相沉積的原理是利用物理的方法,如蒸發、濺射等來使鍍膜材料汽化,在基體表面上沉積成膜的方法。物理氣相沉積的鍍膜材料通常是純金屬或化合物。它們在真空或低壓的條件下,通過加熱、電子束、離子束、激光等方式,從源頭蒸發或濺射原子或分子,然后在基體表面上凝聚,形成薄膜。物理氣相沉積的過程中沒有發生化學反應,沉積前后的物質都是一樣的。

化學氣相沉積與物理氣相沉積的特點差異化學氣相沉積與物理氣相沉積在特點方面也具有較大差異。

薄膜質量:化學氣相沉積可以得到純度高、致命性好、殘余應力小、結晶良好的薄膜,物理氣相沉積可以得到硬度高、強度高、熱穩定性好、耐磨性好、化學性能穩定、摩擦系數低的薄膜。化學氣相沉積的薄膜質量受到反應條件、反應物質、反應機理等因素的影響,物理氣相沉積薄膜質量受到沉積能量、沉積速率、沉積溫度等因素的影響。

薄膜均勻性:化學氣相沉積可以得到厚度和成分均勻的薄膜,物理氣相沉積的薄膜厚度和成分均勻性較差。化學氣相沉積的薄膜均勻性主要取決于氣體的流動和擴散,物理氣相沉積的薄膜均勻性主要取決于沉積角度和距離。

臺階覆蓋性:化學氣相沉積可以得到臺階覆蓋性好的薄膜,物理氣相沉積的臺階覆蓋性較差。化學氣相沉積的臺階覆蓋性主要取決于反應物質的擴散和反應速率,物理氣相沉積臺階覆蓋性主要取決于沉積粒子的方向性和能量。

沉積速率:物理氣相沉積可以得到沉積速率高的薄膜,化學氣相沉積的沉積速率較低。物理氣相沉積的沉積速率主要取決于源頭的蒸發或濺射速率,化學氣相沉積的沉積速率主要取決于反應物質的供應和反應速率。

沉積溫度:化學氣相沉積需要較高的沉積溫度,物理氣相沉積可以在較低的沉積溫度下進行。化學氣相沉積的沉積溫度主要取決于反應物質的分解或反應溫度,物理氣相沉積的沉積溫度主要取決于源頭的蒸發或濺射溫度。

環境污染:化學氣相沉積會產生一些有害的氣體或液體,造成環境污染,而物理氣相沉積的過程中沒有產生有害的物質,是一種綠色的制備技術。化學氣相沉積的環境污染主要來自于反應物質和反應產物的處理,物理氣相沉積的環境污染主要來自于真空系統的維護。

美能四探針電阻測試儀可以對最大230mm的樣品進行快速、自動的掃描,獲得樣品不同位置的方阻/電阻率分布信息,可廣泛應用于光伏、半導體、合金、陶瓷等諸多領域。

● 超高測量范圍,測量0.1MΩ~100MΩ

● 高精密測量,動態重復性可達0.2%

全自動多點掃描,多種預設方案亦可自定義調節

快速材料表征,可自動執行校正因子計算


化學氣相沉積與物理氣相沉積是兩種不同的太陽能電池薄膜制備技術,它們各有優缺點,適用于不同的材料、結構和應用。在實際的薄膜制備過程中,往往需要根據具體的需求,選擇合適于具體情況的制備技術,從而實現高質量生產,并在生產結束使用美能四探針電阻測試儀對薄膜進行檢測,從而實現科學使用!

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 太陽能電池
    +關注

    關注

    22

    文章

    1195

    瀏覽量

    69576
  • 設備
    +關注

    關注

    2

    文章

    4546

    瀏覽量

    70858
  • 檢測
    +關注

    關注

    5

    文章

    4512

    瀏覽量

    91748
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    碳化硅薄膜沉積技術介紹

    多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應性、制造優勢和多樣的沉積技術而著稱;而非晶碳化硅則以其極低的沉積溫度、良好的化學與機械性能以及廣泛的應用前景而
    的頭像 發表于 02-05 13:49 ?78次閱讀
    碳化硅薄膜<b class='flag-5'>沉積</b>技術介紹

    半導體薄膜沉積技術的優勢和應用

    在半導體制造業這一精密且日新月異的舞臺上,每一項技術都是推動行業躍進的關鍵舞者。其中,原子層沉積(ALD)技術,作為薄膜沉積領域的一顆璀璨明星,正逐步成為半導體工藝中不可或缺的核心要素。本文旨在深度剖析為何半導體制造對ALD技術情有獨鐘,并揭示其獨特魅力及廣泛應用。
    的頭像 發表于 01-24 11:17 ?409次閱讀

    原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)詳解

    ? 本文介紹了什么是原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)。 1.原理:基于分子層級的逐層沉積 ALD 是一種精確的薄膜沉積技術,其核心原理是利用化學
    的頭像 發表于 01-17 10:53 ?218次閱讀
    原子層<b class='flag-5'>沉積</b>(ALD, Atomic Layer Deposition)詳解

    【「大話芯片制造」閱讀體驗】+ 芯片制造過程和生產工藝

    、原子層沉積物理氣沉積,精確地沉積到晶圓上它為后續構建多層半導體結構奠定了基礎。 互連是將構建的電子元器件用金屬進行電路連接,保證元器件
    發表于 12-30 18:15

    半導體晶圓制造工藝流程

    ,它通常采用的方法是化學沉積(CVD)或物理氣沉積
    的頭像 發表于 12-24 14:30 ?1009次閱讀
    半導體晶圓制造工藝流程

    【「大話芯片制造」閱讀體驗】+芯片制造過程工藝面面觀

    數據有了更深的印象。 然后介紹了薄膜形成方法 熱氧化 化學沉積 物理氣
    發表于 12-16 23:35

    選擇性沉積技術介紹

    選擇性沉積技術可以分為按需沉積與按需材料工藝兩種形式。 隨著芯片制造技術的不斷進步,制造更小、更快且能效更高的芯片具很大的挑戰,尤其是全環繞柵極(Gate-All-Around, GAA)晶體管和更
    的頭像 發表于 12-07 09:45 ?409次閱讀
    選擇性<b class='flag-5'>沉積</b>技術介紹

    硅碳負極生產的工藝流程

    硅碳負極生產工藝流程如下: (1)沉積 多孔碳材料粉末經人工投料入加料倉,加料倉經正壓輸送粉末加入
    的頭像 發表于 11-21 16:41 ?2527次閱讀
    硅碳負極生產的工藝流程

    多晶硅生產過程中硅芯的作用

    芯的表面特性(如清潔度、粗糙度)會影響沉積速率和硅材料的質量。 ? ? ?基底作用? 硅芯作為沉積過程的基底,是硅材料沉積的起點。在化學
    的頭像 發表于 11-14 11:27 ?297次閱讀

    淺談薄膜沉積

    集成電路的發展,晶圓制造工藝不斷精細化,芯片結構的復雜度也在不斷提高,需要在更微小的線寬上制造。制造商要求制備的薄膜品種也隨之增加,對薄膜性能的要求也在日益提高。 薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類: 物理氣
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?2063次閱讀

    SOLMATES:準分子激光器推進脈沖激光沉積

    改進,以支持更多種類的薄膜工藝,同時還可以實現靈活的工藝優化。 Solmates 位于荷蘭恩斯赫德,該公司專業研發脈沖激光沉積 (PLD) 技術,已著手為不斷發展的薄膜行業開發功能強大且使用方便的沉積設備。 解決方案 Solmates 團隊使用了 PLD。這是一種
    的頭像 發表于 09-19 06:22 ?296次閱讀
    SOLMATES:準分子激光器推進脈沖激光<b class='flag-5'>沉積</b>

    半導體靶材:推動半導體技術飛躍的核心力量

    半導體靶材是半導體材料制備過程中的重要原料,它們在薄膜沉積物理氣沉積(PVD)、化學
    的頭像 發表于 09-02 11:43 ?730次閱讀
    半導體靶材:推動半導體技術飛躍的核心力量

    合肥致真精密設備獲天使輪數千萬元投資

    這家公司創立于2021年,致力于生產高精密度物理氣沉積設備及其關鍵部件。目前擁有科研級薄膜制備系統、產業級薄膜制備系統、真空傳輸平臺及超高真空零配件四大品種。
    的頭像 發表于 04-19 11:45 ?561次閱讀

    蘋果測試新抗反射涂層技術,提升iPhone相機成像水平

    原子層次沉積(ALD)乃是一種采用連續化學反應方式在基板表面對物質實行逐層鍍膜的工藝。無疑,ALD為一種精密納米技術,能夠精準控制并完成納米級別超薄薄膜
    的頭像 發表于 04-16 11:10 ?858次閱讀

    流量控制器在半導體加工工藝化學沉積(CVD)的應用

    物理氣沉積(PVD)和化學沉積(CVD),其
    的頭像 發表于 03-28 14:22 ?1007次閱讀
    流量控制器在半導體加工工藝<b class='flag-5'>化學</b><b class='flag-5'>氣</b><b class='flag-5'>相</b><b class='flag-5'>沉積</b>(CVD)的應用
    百家乐官网网络赌场| 什么叫百家乐官网的玩法技巧和规则| 百家乐全部规则| 如何玩百家乐官网赢钱技巧| 百乐门| 百家乐桌布9人| 破战百家乐官网的玩法技巧和规则 | 百家乐赌法博彩正网| 金百亿百家乐官网娱乐城| 大发888娱乐鸿博娱乐| 百家乐单机游戏免费| 百家乐官网入庄闲概率| 九台市| 六合彩预测| 郑州百家乐高手| 百家乐赢钱秘密| 捷豹百家乐官网的玩法技巧和规则 | 百家乐黏土筹码| 百家乐官网游戏单机牌| 老虎机加分器| 百家乐园云顶娱乐主页| 属火的在属土的方向做生意好不好| 百家乐官网视频中国象棋| 孟津县| 亿酷棋牌世界下载| 威尼斯人娱乐城总部| 百家乐7scs娱乐场| 网络百家乐游戏机怎么破解| 百家乐官网平注法亏损| 优惠搏百家乐官网的玩法技巧和规则 | 德州扑克保险赔率| 大发888在线娱乐城代理| 威尼斯人娱乐城网址| 送58百家乐的玩法技巧和规则| 百家乐扑克发牌器| 七乐百家乐现金网| 百家乐官网波音独家注册送彩| 百家乐官网真人百家乐官网赌博| 百家乐手机投注平台| 百家乐官网平注法到656| 老k百家乐官网的玩法技巧和规则 KTV百家乐官网的玩法技巧和规则 |