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羅姆推出新型SBD

半導體芯科技SiSC ? 來源:Silicon Semiconductor ? 作者:Silicon Semiconductor ? 2024-02-21 14:04 ? 次閱讀

來源:Silicon Semiconductor

非常適合汽車LED頭燈和其他高速開關應用。

ROHM(羅姆)開發了100V擊穿肖特基勢壘二極管 (SBD),可為汽車、工業和消費應用中的電源保護電路提供“業界領先”的反向恢復時間 (trr)。

盡管存在多種類型的二極管,但高效SBD越來越多地用于各種應用。特別是具有溝槽MOS結構的SBD,其VF低于平面型,可在整流應用中實現更高的效率。然而,溝槽MOS結構的一個缺點是它們的trr通常比平面拓撲差,導致用于開關時的功率損耗更高。

為此,ROHM開發了一個新系列,采用專有的溝槽MOS結構,可同時降低VF和IR(處于權衡關系),同時實現同類領先的trr。

YQ系列是ROHM首款采用溝槽MOS結構的YQ系列,它擴展了現有的四種傳統SBD產品陣容,并針對各種要求進行了優化。該專有設計實現了同類領先的15ns trr,從而將trr損耗降低了約37%,總體開關損耗比一般溝槽型MOS產品低約26%,有助于降低應用功耗。與傳統平面型SBD相比,新結構還改善了VF和IR損耗。當用于正向偏置應用(例如整流)時,這會降低功率損耗,同時還降低熱失控風險,而熱失控是SBD的主要問題。因此,它們非常適合需要高速開關的裝置,例如汽車LED頭燈的驅動電路和xEV中容易產生熱量的DC-DC轉換器

展望未來,羅姆將努力進一步提高從低電壓到高電壓的半導體器件的質量,同時加強其廣泛的產品陣容,以進一步降低功耗并實現更大的小型化。

SBD溝槽MOS結構

溝槽MOS結構是通過在外延片層中使用多晶硅形成溝槽來減輕電場集中的。這降低了外延晶圓層的電阻,從而在正向施加電壓時實現更低的VF。同時,在反向偏壓期間,電場集中最小化,從而大大降低IR。因此,與傳統產品相比,YQ系列將VF和IR提高了約7%和82%。

與典型的溝槽MOS結構相比,由于寄生電容(器件中的電阻成分)較大,trr比平面型MOS結構差,YQ系列通過采用獨特的結構設計,實現了業界領先的15ns trr。這使得開關損耗減少約26%,有助于降低應用功耗。

應用實例

? 汽車LED頭燈

? xEV DC-DC轉換器

? 工業設備電源

? 燈光

審核編輯 黃宇

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