挑戰(zhàn)

薄膜沉積技術應用于多種市場，例如 MEMS、半導體、光伏、OLED 顯示屏和用于 5G 通信的射頻濾波器。 新型復雜材料系統(tǒng)具有越來越重要的材料特性，這就要求對薄膜沉積技術進行不斷擴展和質(zhì)量改進，以支持更多種類的薄膜工藝，同時還可以實現(xiàn)靈活的工藝優(yōu)化。 Solmates 位于荷蘭恩斯赫德，該公司專業(yè)研發(fā)脈沖激光沉積 (PLD) 技術，已著手為不斷發(fā)展的薄膜行業(yè)開發(fā)功能強大且使用方便的沉積設備。

解決方案

Solmates 團隊使用了 PLD。這是一種物理氣相沉積方法，依靠準分子激光將化學計量特征極為復雜的材料沉積在導電和非導電基板上。 他們的 PLD 系統(tǒng)可以完全控制沉積參數(shù)，因而能夠?qū)ψ罱K薄膜特性進行工程設計，例如成分、結(jié)晶度、密度、孔隙率和薄膜應力。 薄膜制造商可以獲得其他沉積技術無法實現(xiàn)的電學和光學薄膜特性，甚至涉足新材料系統(tǒng)和應用。 Solmates 選擇了相干公司的 LEAP 準分子激光器系列，因為該產(chǎn)品系列兼具高能量(每脈沖高達 1 焦耳)和可擴展功率(80 至 300 W)，這兩個方面決定了 PLD 系統(tǒng)的吞吐量。 此外，LEAP 激光器在要求苛刻的大批量生產(chǎn)環(huán)境中擁有良好記錄，具備全天候工業(yè)可靠性，并盡可能降低每片晶圓的成本。

結(jié)果

如今，Solmates PLD 平臺可以集成到任何標準集群框架中，以支持小規(guī)模和大批量生產(chǎn)。 隨著適合最大 300 毫米工業(yè)晶圓的高質(zhì)量 PLD 工藝的出現(xiàn)，工業(yè)客戶能夠擴大他們的薄膜沉積產(chǎn)能，并在沉積產(chǎn)品組合中添加大約 30 種新材料和材料系統(tǒng)。

審核編輯 黃宇