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      如何測(cè)量晶圓表面金屬離子的濃度

      中科院半導(dǎo)體所 ? 來(lái)源：Tom聊芯片智造 ? 2024-11-26 10:58 ? 次閱讀

      ???本文主要介紹如何測(cè)量晶圓表面金屬離子的濃度。?

      金屬離子濃度為什么要嚴(yán)格控制？????

      金屬離子在電場(chǎng)作用下容易發(fā)生遷移。如Li?，Na?、K?等可遷移到柵氧化層，導(dǎo)致閾值電壓下降。

      常用的檢測(cè)晶圓表面金屬離子的儀器？

      全反射 X 射線熒光光譜儀，英文簡(jiǎn)稱TXRF。

      X射線熒光是什么？

      當(dāng)X射線照射樣品時(shí)，樣品原子吸收X射線的能量，使原子的內(nèi)層電子被激發(fā)到更高能級(jí)，原有位置形成空穴。而外層電子會(huì)躍遷至內(nèi)層空穴，在躍遷過(guò)程中，多余的能量以特定波長(zhǎng)的X射線形式釋放。通過(guò)檢測(cè)這些X射線，可以確定元素的種類和含量。

      什么叫全反射？

      3d09e446-ab15-11ef-93f3-92fbcf53809c.png

      如上圖，TXRF的X 射線會(huì)以極低的入射角照射樣品表面，X 射線的穿透深度僅有幾個(gè)nm，即全部反射，大大減少了背景信號(hào)干擾，因此可檢測(cè)低至 ppb級(jí)別的痕量金屬污染。? TXRF的優(yōu)勢(shì)？ 1、靈敏度高 2、非破壞性 3、快速檢測(cè)，一般只要幾分鐘 4，全晶圓分析 5、可以分析多種襯底，例如 Si、SiC、GaAs、InP、藍(lán)寶石、玻璃等

      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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      原文標(biāo)題：如何測(cè)量晶圓表面金屬離子的濃度？

      文章出處：【微信號(hào)：bdtdsj，微信公眾號(hào)：中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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