腔室壓力對刻蝕的影響
本文介紹了腔室壓力對刻蝕的影響。
腔室壓力是如何調節的？對刻蝕的結果有什么影響？
什么是腔室壓力？ 腔室壓力是指在刻蝕設備的工藝腔室內的氣體壓力，通常以托（Torr）或帕斯卡（Pa）為單位。
腔室壓力由什么決定的？
1，氣體流量越高，壓力越大。
2，真空泵排氣，泵速越高，腔室壓力越低。
腔室壓力對于刻蝕的影響
1，離子轟擊能量。低壓力，分子平均自由程大，離子的碰撞幾率小，能量耗散少，故能量高。
2，離子與自由基的比例。低壓力時，離子的比例高，有利于物理刻蝕。高壓力時，自由基比例高，有利于化學刻蝕。
3，刻蝕均勻性。高壓力時，高頻碰撞會使氣體流速降低，自由基更容易擴散到晶圓表面各處，包括邊緣區域，整個晶圓表面接觸到的反應物濃度均勻，刻蝕速率趨于一致。
總結 隨著腔室壓力的提高，刻蝕反應逐漸由物理刻蝕到物理+化學刻蝕到化學刻蝕所轉變。
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原文標題：腔室壓力對刻蝕有什么影響？
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發表于 03-27 10:49
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