電子發燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知，EUV光刻機產能有限而且成本高昂，業界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產高端芯片的技術和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2910 電子發燒友網報道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺瘋傳一條消息，稱清華大學EUV項目，把ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502575 
電子發燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 
光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4136 
據荷蘭《電訊報》3月6日報道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業界嘩然。據悉，荷蘭政府為阻止這一可能發生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 ，但是編碼器絕對沒有打滑。
請問這個編碼器是否同心對電機測速影響這么大嗎？我的理解電機轉一圈編碼器轉一圈，只要轉動的每一圈距離時長一樣應該是沒有問題的，但是在變頻器上反饋頻率波動大約有1HZ左右，閉環完全不能運行。詳細原因究竟是什么？
2024-03-06 17:34:21
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠，據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01161 
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半導體產業中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 來源：DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨，與ASML的EVU設備競爭市場，因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機是微電子制造的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
來源：AIot工業檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設備的力度，以提高產能。作為EUV光刻機制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
2024-01-26 09:20:12409 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機電器件等用到光刻技術的領域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
一系列環節如制造、封裝、測試等。 ? 在這其中，制造過程顯得尤為關鍵，而高端光刻機則是制造過程中不可或缺的設備。 光刻機在微電子制造過程中扮演核心角色，其要求具備高度精密的光學系統、復雜的機械結構和先進的控制技術。
2024-01-17 17:56:59292 在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后，美國官員聯系了荷蘭政府。荷蘭外交發言人表示，出口許可證是根據荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
電路板原理圖如上圖所示，我用ZYNQ通過SPI與DA芯片通信，當我控制DA芯片輸出固定電壓時，音圈電機不轉，但是當DA芯片輸出變化的電壓，例如三角波或者正弦波，音圈電機就會往返轉動，而且看上去轉動
2023-12-27 16:14:33
掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關鍵部件之一，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:135396 
光刻與光刻機
?對準和曝光在光刻機(Lithography Tool)內進行。
?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。
光刻機結構及工作原理
?光刻機簡介
?光刻機結構及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
LabVIEW在燃氣輪機發電機組勵磁控制系統測試中的應用
燃氣輪機發電機組作為一種高效可靠的常備應急電源，在保障發電品質穩定性和可靠性方面發揮著關鍵作用。其中，勵磁控制系統是保證供電質量的重要環節
2023-12-18 20:19:08
光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，k?體現了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
歡迎了解 光刻機（Lithography Machine）是一種半導體工業中常用的設備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉移到硅片上，是IC制造的核心環節，光刻機的基本工作原理是利用光學原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
光學模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學成像理論，預先計算出透射相交系數（TCCs），從而描述光刻機的光學成像。光學模型中，經過優化的光源，通過光刻機的照明系統，照射在掩模上。如果在實際光刻
2023-12-11 11:35:32287 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
一個紙機涂布排風系統中，有一臺G120 變頻器 45KW電機，在運行過程總是會出現堵轉跳停，而且跳停后很難再啟動！請教各位大蝦 有什么方法可以改善這種情況，還是可以通過修改參數解決？勞煩大家給點意見！
2023-11-16 06:38:23
電機轉一圈同步帶轉多少怎么計算
2023-11-07 06:51:25
隨著工藝節點不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費的資金成本從數十萬到上億，呈指數級增長，同時生產掩模版的時間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設計有足夠高的品質，重新優化設計并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時間成本。
2023-11-02 14:25:59284 
光刻機中的投影物鏡一般由凸透鏡、凹透鏡和棱鏡等一系列透鏡組成，其作用是將光源發出的光束進行聚焦和投射。在光刻機中，投影物鏡將掩模版上的電路圖案縮小到一定比例后，聚焦成像到預涂光阻層的晶圓上。
2023-11-01 11:23:34263 2020年時，ASML總裁還聲稱中國即使拿到設計圖紙也無法自制光刻機。但2021年開始，其態度出現變化，承認中國有可能獨立制造光刻機系統。2022年甚至主動表示要繼續向中國出售光刻機。2023年上半年，ASML開始大量向中國傾銷光刻機。
2023-10-30 16:18:101124 永磁同步電動機在各行各業中尤其在工業控制行業中的應用越來越廣泛。三相永磁同步電機在產品研發及出廠檢測必須確保產品性能及產品質量,因此對電機的性能進行嚴格的測試與分析顯得尤為重要。永磁同步電機測試系統
2023-10-28 13:21:23
電機特性常數測試系統產品概述：電機特性常數測試系統適用于各種功率電機測試，扭矩變化不受轉速的影響，因此可以進行空載到堵轉的全程測試。實現電機的電壓、電流、輸入功率、轉速、轉矩、輸出功率、效率等進行
2023-10-28 13:12:56
監控的項目有電流、轉速、溫度和功率等，可以自由設定電機的運行時間、停止時間及循環次數。各個工位獨立運行，不受其它工位的干擾。測試數據全部存儲在系統中，并能實現遠距離
2023-10-28 10:41:35
新能源汽車電機綜合測試系統測試用于純電動汽車用電機、電機控制器、差減速器等產品檢驗和故障分析，該系統能夠滿足型式試驗和耐久試驗要求、電控系統試驗和車用電機以及動力電池組在動力系統中的性能試驗及優化
2023-10-28 10:22:02
能量回饋型新能源汽車電機測試系統用于新能源純電動汽車開發過程中對各種型式永磁同步電機及其控制器進行各方面性能、可靠性臺架測試,能夠完成電機控制策略的開發、匹配、標定、評價研究;也能夠用于驅動電機
2023-10-28 10:10:01
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
電子發燒友網站提供《PCB激光投影光刻照明系統的設計.pdf》資料免費下載
2023-10-23 09:38:18
1 用51單片機控制直流電機轉動圈數，在電位計旋轉至不同位置轉動不同圈數。
2023-10-19 08:07:47
半導體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰出人物調查。 來自半導體生態系統（包括光掩模
2023-10-17 15:00:01224 怎么確定步進電機轉動一圈需要的脈沖數
2023-10-12 07:16:00
電機在運行的時候怎么計數轉動的圈數
2023-10-11 06:23:21
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674 
SMT鐳雕機_自動在線激光刻印_全自動翻板鐳雕機PCB在線激光鐳雕機，選用國際領先工業級激光器，加工速度快，使用壽命長， 可刻印漢字，英文、數字、圖表、流水號、LOGO、條形碼、二維碼等內容
2023-09-23 10:16:45
UV光刻機一般可以分為5種，即：接觸式光刻機，接近式光刻機，掃描投影式光刻機
2023-09-19 11:32:521302 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰。
2023-09-14 09:45:12562 
運動平臺如雙XY橋臺、雙驅動龍門臺、空流平臺等。這些線性運動平臺也將用于光刻機、面板處理、測試機、印刷電路板鉆并機、高精度激光處理設備、基因序列儀、腦細胞成像儀和其他醫療設備。
高動態響應
低安裝高度
UL與CE認證
持續推力范圍103N至
瞬間推力范圍289N至
安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
香蕉派BPI-FSM8191D伺服電機控制器是香蕉派開源社區與峰岹科技合作打造的一款工業級伺服電機控制產品。是一款應用于驅動旋轉伺服電機，直線伺服電機以及力矩電機的伺服模塊，在實際應用中，由主控板
2023-09-04 09:16:12
短波長透明光學元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件造成了嚴重的限制，因為這種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279 
光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578 
光刻機有半導體工業“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產芯片所需要的最關鍵和最復雜的設備之一（一臺光刻機有10萬個組件）。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產品美國、日本和中國均能生產），而絕大部分的組件供應商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02396 在半導體行業中，直線電機模組以其高速度、高精度的特點，杯應用于光刻機、IC 成膜機、IC 塑封機等多種不同加工設備中，而且單臺設備往往須要幾臺直線電機。
2023-08-04 12:56:23286 三十年來，半導體掩模技術基本保持不變，掩模的制作是在可變成形機上進行的，這些機器將可變元件限制在 45 度角。隨著功能縮小并變得更加復雜，電子束和多束掩模寫入器提供了設計的靈活性?，F在，幾乎 100% 的掩模都是使用多光束技術制作的，為高數值孔徑系統上更復雜、更高效的設計帶來了新的機會。
2023-08-01 11:21:26289 
CHOTEST中圖儀器PO系列數控機床在機測量系統也就是機床測頭，可以用于精密測量和檢測應用。比如，在汽車零部件加工中，可以使用測頭對發動機曲軸箱等關鍵部位進行精密測量和檢測，以確保其質量和可靠性
2023-07-26 13:29:40
。照明系統是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統光學設計為研究方向，對照明系統關鍵單元進行了光學設計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝，需要高度專業化的技術和設備。它涉及到許多關鍵的工藝步驟和組件，如光學系統、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 17:48:2813485 荷蘭實施半導體出口管制 ASML光刻機DUV系統需要許可證 芯片戰愈演愈烈。荷蘭正式實施半導體出口管制條款，這將對光刻機巨頭阿斯麥（ASML）產生更多影響。ASML的EUV光刻系統在此前已經
2023-07-01 17:38:19669 
機床在機測量頭系統一般安裝在數控車床、加工中心、數控磨床等數控機床上。它在加工循環中不需人為介入，就能直接對刀具或工件的尺寸及位置進行測量，并根據測量結果自動修正工件或刀具的偏置量，使同樣的機床能
2023-06-28 13:35:35
搞光刻機必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機畢竟不是核彈，光刻機從試驗機改良成量產機，需要與產線相結合試驗生產，這些步驟是不可能秘密進行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
因此光刻機對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質量和效率的重要因素?？v觀全球光刻機市場，荷蘭ASML公司一家獨大，占據全球80%的光刻機市場份額，高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環節，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備，市場規模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現象凸顯 光刻機：多個先進系統的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008364 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機，250W的功率，每天耗電達到三萬度。
生產效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機需要采用全反射光學元件，掩模需要采用反射式結構。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復等。
2023-06-07 10:45:541008 
極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當的抗蝕劑調節。光刻工藝步驟需要按順序進行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418 
上海伯東客戶某光刻機生產商, 生產的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結構。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級別，才能穩定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
BE-8106 重物沖擊試驗機-重物撞擊試驗機-電池沖擊碰撞試驗臺 BE-8106電池重物沖擊試驗機適用標準重物沖擊試驗臺要符合GB8897.4-2002、GB/T18287-2000
2023-05-24 11:13:52
在投影光刻機照明系統中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項重要技術。通常，用于光刻機照明系統的勻光元件有積分棒、衍射光學元件和微透鏡陣列。積分棒勻光的缺點是，限制了照明最大孔徑角
2023-05-17 14:52:061059 
的偏置量，使同樣的機床能加工出更高精度的零件。 中圖儀器PO40機床在機測量系統是一款具有 3 維 5 向探測功能的紅外觸發機床測頭，具有體積小、精度高、
2023-05-17 14:41:23
在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492772 
2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們，這也讓這些年來無數國人關注光刻機的研發進度。
2023-05-10 16:24:1521220 掃描儀(scanner)是一種在wafer上創建die images的機器。它首先通過刻線（有時稱為掩模）將光照射到涂有保護性光刻膠的wafer上，以刻上刻線圖案的圖像。
2023-05-06 09:51:385193 
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應該減小。
2023-04-27 16:25:00689 
現代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限，需要實現突破其物理極限的高分辨率，這正是計算光刻技術發揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術，它結合來自ASML設備和測試晶圓的關鍵數據，是一個模擬生產過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:131057 
泰科伺服生產的MT無刷伺服系統主要由IDM系列伺服驅動器與兼容NEMA法蘭尺寸的直流無刷伺服電機組合而成。采用直流供電，最大功率可達600W,主要應用于小型移動機器人、自動化檢測組裝、醫療設備等行業
2023-04-20 10:45:52
，最大功率可達5KW。集可編程運動控制、PLC、伺服驅動功能于一體。主要應用于直線（DDL）、力矩(DDR)、音圈、有刷、無刷伺服電機的位置、速度、轉矩控制。它能以
2023-04-20 10:21:24
泰科智能生產的MT無刷伺服系統主要由IDM系列伺服驅動器與兼容NEMA法蘭尺寸的直流無刷伺服電機組合而成。采用直流供電，最大功率可達600W,主要應用于小型移動機器人、自動化檢測組裝、醫療設備等行業
2023-04-19 11:07:03
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰，imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
? 在基礎科研中，微納結構的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過程中的必要手段。常規光刻機需要定制光學掩模板，這不僅增高成本，還使靈活性大打折扣，即當發生任何設計上的變動，都需要重新制造掩模板。激光
2023-03-28 08:55:41692 
為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻，可以極大的降低功耗、節省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經導入
2023-03-23 18:55:377488 
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