因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12托, 超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要, 因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)過程中, 表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用, 而不會(huì)受到氣相散射的干擾并可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高質(zhì)量的薄膜.

上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化基板尺寸, 最大直徑可達(dá)12寸晶圓
薄膜均勻度小于±3％
磁控濺鍍?cè)?(最多8個(gè)源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍?cè)?br>射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電與導(dǎo)電靶材
精準(zhǔn)流量控制器 (最多4條氣體管線)
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的
每個(gè)濺鍍?cè)春突寰惭b遮板

上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷, 來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定.

磁控濺鍍?cè)O(shè)備基本參數(shù)

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
腔體為使用金屬密封圈并可烘烤至 150 oC
具有顯示功能的全量程真空計(jì)和用于壓力控制的 Baratron 真空計(jì)
腔體的極限真空度約10-10 Torr

選件
可以與傳送腔, 機(jī)械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...
基板可用射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測(cè)儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學(xué)研究, 材料研究

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