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刻蝕機(jī)

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刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2012年5月14日啟用，在半導(dǎo)體和線路板制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

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刻蝕機(jī)資訊

上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)介紹

IBE (Ion Beam Etching) 離子束刻蝕, 通常使用 Ar 氣體作為蝕刻氣體, 將與電子的沖擊產(chǎn)生的離子在 200~ 1000ev 的范...

2024-12-26 標(biāo)簽：離子束刻蝕機(jī) 274 0

濕法刻蝕步驟有哪些

說(shuō)到濕法刻蝕了，這個(gè)是專業(yè)的技術(shù)。我們也得用專業(yè)的內(nèi)容才能給大家講解。聽(tīng)到這個(gè)工藝的話，最專業(yè)的一定就是講述濕法刻蝕步驟。你知道其中都有哪些步驟嗎？如果...

2024-12-13 標(biāo)簽：刻蝕設(shè)備刻蝕工藝刻蝕機(jī) 249 0

上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢(shì)

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料。是一種干法物理納米級(jí)別的刻蝕，刻蝕均勻性 ≤±5%（部分材料 ±3%）。...

2024-11-27 標(biāo)簽：離子束刻蝕機(jī) 198 0

臻寶科技開(kāi)啟上市輔導(dǎo)

近日，中國(guó)證券監(jiān)督管理委員會(huì)（證監(jiān)會(huì)）披露了重慶臻寶科技股份有限公司（簡(jiǎn)稱“臻寶科技”）的首次公開(kāi)發(fā)行股票并上市輔導(dǎo)備案報(bào)告，標(biāo)志著該公司正式開(kāi)啟上市輔...

2024-02-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 1685 0

比肩國(guó)際大廠，刻蝕設(shè)備會(huì)是率先實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代的嗎？

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在半導(dǎo)體制造的各路工序中，尤其是前道工序中，技術(shù)難度最大的主要三大流程當(dāng)屬光刻、刻蝕和薄膜沉積了。這三大工藝的先進(jìn)程度直接...

2023-07-30 標(biāo)簽：設(shè)備半導(dǎo)體設(shè)備刻蝕機(jī) 2329 0

北方華創(chuàng)發(fā)布首臺(tái)國(guó)產(chǎn)12英寸晶邊刻蝕機(jī)

據(jù)介紹，在器件制造過(guò)程中，由于薄膜沉積、光刻、刻蝕和化學(xué)機(jī)械拋光等工藝步驟的大幅增長(zhǎng)，在晶圓的邊緣造成了不可避免的副產(chǎn)物及殘留物堆積，這些晶邊沉積的副產(chǎn)...

2023-07-19 標(biāo)簽：晶圓存儲(chǔ)芯片刻蝕機(jī) 1266 0

比亞迪再擴(kuò)大投資版圖，入股嘉芯半導(dǎo)體

據(jù)萬(wàn)業(yè)企業(yè)公告，2021年12月，萬(wàn)業(yè)企業(yè)攜手寧波芯恩半導(dǎo)體科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“寧波芯恩”）成立嘉芯半導(dǎo)體，以20億元總投資規(guī)模，重點(diǎn)打造國(guó)內(nèi)集成電...

2023-07-13 標(biāo)簽：半導(dǎo)體比亞迪刻蝕機(jī) 1365 0

勝訴！美國(guó)半導(dǎo)體巨頭侵犯中微刻蝕機(jī)商業(yè)秘密案，終審宣判！

編輯：感知芯視界來(lái)源：EETOP 2023年7月11日——中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）今日...

2023-07-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 596 0

中微公司在針對(duì)美商科林研發(fā)提起的侵犯商業(yè)秘密案中贏得二審勝訴

中微公司2010年12月向上海市第一中級(jí)人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟，并于2017年3月贏得一審訴訟。隨后，該案件被上訴至上海市高級(jí)...

2023-07-11 標(biāo)簽：中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 538 0

12英寸深硅刻蝕機(jī)銷售突破百腔，北方華創(chuàng)助力Chiplet TSV工藝發(fā)展

隨著晶體管尺寸不斷向原子尺度靠近，摩爾定律正在放緩，面對(duì)工藝技術(shù)持續(xù)微縮所增加的成本及復(fù)雜性，市場(chǎng)亟需另辟蹊徑以實(shí)現(xiàn)低成本前提下的芯片高性能，以TSV（...

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12英寸深硅刻蝕機(jī)銷售突破百腔，北方華創(chuàng)助力Chiplet TSV工藝發(fā)展

2023-06-30 標(biāo)簽：晶體管刻蝕機(jī)chiplet 979 0

國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備局面解析

光刻機(jī)、刻蝕機(jī)設(shè)備、氣相沉積設(shè)備是三大核心半導(dǎo)體設(shè)備，占據(jù)了產(chǎn)線設(shè)備總投資額70%。

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搖擺蝕刻機(jī)

PTFE管用途：可用于蝕刻搖擺機(jī)的搖擺架，PTFE也稱：可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon 蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)單介紹： 1、采用傳動(dòng)裝置，霧化噴淋，結(jié)構(gòu)合理...

2022-12-19 標(biāo)簽：蝕刻刻蝕機(jī) 657 0

刻蝕后殘留物的去除方法

引言化合物半導(dǎo)體處理通常使用高密度等離子體蝕刻來(lái)建立通孔金屬接觸，該通孔金屬接觸通常在諸如金(Au)的惰性金屬上停止。蝕刻工藝可以從正面或背面穿過(guò)襯底...

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TMAH溶液對(duì)硅得選擇性刻蝕研究

我們?nèi)A林科納研究了TMAH溶液中摩擦誘導(dǎo)選擇性蝕刻的性能受蝕刻溫度、刻蝕時(shí)間和刮刻載荷的影響，通過(guò)對(duì)比試驗(yàn)，評(píng)價(jià)了硅摩擦誘導(dǎo)的選擇性蝕刻的機(jī)理，各種表面...

2022-05-20 標(biāo)簽：刻蝕刻蝕機(jī) 2477 0

SPM刻蝕工藝優(yōu)化的詳細(xì)說(shuō)明

本文研究了一種優(yōu)化的食人魚(h2o2：h2so4)混合物，該混合物用于去除高度交聯(lián)并加熱到高溫(~250°C)，由于強(qiáng)烈的化學(xué)蝕刻工藝，這些混合物的蝕刻...

2022-05-12 標(biāo)簽：SPM 刻蝕機(jī) 1045 0

用于蝕刻沖洗和干燥MEMS晶片的最佳工藝條件實(shí)驗(yàn)報(bào)告

本研究通過(guò)我們?nèi)A林科納對(duì)使用液體二氧化碳和超臨界二氧化碳進(jìn)行蝕刻和沖洗工藝的各種實(shí)驗(yàn)結(jié)果，選擇合適的共溶劑，獲得最佳的工藝條件，以提高工藝效率和生產(chǎn)率。...

2022-02-08 標(biāo)簽：顯微鏡微機(jī)電系統(tǒng)MEMS傳感 981 0

關(guān)于HF與HNO3混合物中硅的濕化學(xué)蝕刻機(jī)理研究報(bào)告

介紹本文通過(guò)詳細(xì)的動(dòng)力學(xué)研究，闡明了在富含HF的高頻/HNO3混合物中對(duì)硅的濕式化學(xué)蝕刻的機(jī)理。蝕刻實(shí)驗(yàn)后，我們進(jìn)行進(jìn)行了化學(xué)分析并研究了蝕刻速率與溫...

2022-01-24 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 1917 0

關(guān)于玻璃濕法蝕刻的研究報(bào)告—江蘇華林科納半導(dǎo)體

引言器件材料需要具有耐化學(xué)性高、耐熱性高、電絕緣性高、生物相容性好、光學(xué)躍遷范圍大和光吸收低等有趣的特性。在微機(jī)電系統(tǒng)器件制造中，玻璃是僅次于硅的第二...

2022-01-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 2364 0

關(guān)于砷化鎵晶片的濕式化學(xué)蝕刻的研究報(bào)告

引言外延片或所謂的外延片是一種通過(guò)外延生長(zhǎng)生產(chǎn)的材料，商業(yè)上可用于許多不同的電子應(yīng)用。外延晶片可以由單一材料(單晶晶片)和/或多種材料(異質(zhì)晶片)制成...

2022-01-19 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 1787 0

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