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標(biāo)簽 > 刻蝕機(jī)
刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,于2012年5月14日啟用,在半導(dǎo)體和線路板制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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北方華創(chuàng)發(fā)布首臺(tái)國(guó)產(chǎn)12英寸晶邊刻蝕機(jī)
據(jù)介紹,在器件制造過(guò)程中,由于薄膜沉積、光刻、刻蝕和化學(xué)機(jī)械拋光等工藝步驟的大幅增長(zhǎng),在晶圓的邊緣造成了不可避免的副產(chǎn)物及殘留物堆積,這些晶邊沉積的副產(chǎn)...
關(guān)于氧化鋅半導(dǎo)體在酸溶液中的濕刻蝕研究
引言 氧化鋅(ZnO)半導(dǎo)體由于在低沉積溫度下具有高電子遷移率,非常適用于有機(jī)發(fā)光二極管器件。其作為一種新的半導(dǎo)體層取代了薄膜晶體管中使用的非晶硅半導(dǎo)體...
12英寸深硅刻蝕機(jī)銷售突破百腔,北方華創(chuàng)助力Chiplet TSV工藝發(fā)展
隨著晶體管尺寸不斷向原子尺度靠近,摩爾定律正在放緩,面對(duì)工藝技術(shù)持續(xù)微縮所增加的成本及復(fù)雜性,市場(chǎng)亟需另辟蹊徑以實(shí)現(xiàn)低成本前提下的芯片高性能,以TSV(...
本文研究了一種優(yōu)化的食人魚(h2o2:h2so4)混合物,該混合物用于去除高度交聯(lián)并加熱到高溫(~250°C),由于強(qiáng)烈的化學(xué)蝕刻工藝,這些混合物的蝕刻...
國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備局面解析
光刻機(jī)、刻蝕機(jī)設(shè)備、氣相沉積設(shè)備是三大核心半導(dǎo)體設(shè)備,占據(jù)了產(chǎn)線設(shè)備總投資額70%。
2023-02-22 標(biāo)簽:光刻機(jī)芯片設(shè)備半導(dǎo)體設(shè)備 1015 0
用于蝕刻沖洗和干燥MEMS晶片的最佳工藝條件實(shí)驗(yàn)報(bào)告
本研究通過(guò)我們?nèi)A林科納對(duì)使用液體二氧化碳和超臨界二氧化碳進(jìn)行蝕刻和沖洗工藝的各種實(shí)驗(yàn)結(jié)果,選擇合適的共溶劑,獲得最佳的工藝條件,以提高工藝效率和生產(chǎn)率。...
2022-02-08 標(biāo)簽:顯微鏡微機(jī)電系統(tǒng)MEMS傳感 984 0
12英寸深硅刻蝕機(jī)銷售突破百腔,北方華創(chuàng)助力Chiplet TSV工藝發(fā)展
隨著晶體管尺寸不斷向原子尺度靠近,摩爾定律正在放緩,面對(duì)工藝技術(shù)持續(xù)微縮所增加的成本及復(fù)雜性,市場(chǎng)亟需另辟蹊徑以實(shí)現(xiàn)低成本前提下的芯片高性能,以TSV(...
PTFE管用途:可用于蝕刻搖擺機(jī)的搖擺架,PTFE也稱:可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon 蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)單介紹: 1、采用傳動(dòng)裝置,霧化噴淋,結(jié)構(gòu)合理...
勝訴!美國(guó)半導(dǎo)體巨頭侵犯中微刻蝕機(jī)商業(yè)秘密案,終審宣判!
編輯:感知芯視界 來(lái)源:EETOP 2023年7月11日——中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)今日...
中微公司在針對(duì)美商科林研發(fā)提起的侵犯商業(yè)秘密案中贏得二審勝訴
中微公司2010年12月向上海市第一中級(jí)人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟,并于2017年3月贏得一審訴訟。隨后,該案件被上訴至上海市高級(jí)...
2023-07-11 標(biāo)簽:中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 539 0
IBE (Ion Beam Etching) 離子束刻蝕, 通常使用 Ar 氣體作為蝕刻氣體, 將與電子的沖擊產(chǎn)生的離子在 200~ 1000ev 的范...
說(shuō)到濕法刻蝕了,這個(gè)是專業(yè)的技術(shù)。我們也得用專業(yè)的內(nèi)容才能給大家講解。聽(tīng)到這個(gè)工藝的話,最專業(yè)的一定就是講述濕法刻蝕步驟。你知道其中都有哪些步驟嗎?如果...
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