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      標簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了，EUV已經遇到了一些延遲，將技術從一個節點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產euv光刻機發展等內容。

      文章：594個 瀏覽：86150次 帖子：0個

      euv資訊

      三星電子決定在得克薩斯州奧斯汀建設EUV晶圓廠

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      2021-06-24 標簽：三星電子EUV 514 0

      ASML考慮推出通用EUV光刻平臺

      范登布林克指出，更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說，Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產流程，避免因使用 High NA 光刻機進行雙...

      2024-05-23 標簽：分辨率光刻機EUV 498 0

      英特爾率先推出業界高數值孔徑 EUV 光刻系統

      來源：Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能...

      2024-04-26 標簽：英特爾EUV光刻系統 493 0

      下一代EUV***長啥樣？

      下一代EUV***長啥樣？

      EUV 曝光用光源的輸出功率一直在穩步增加，傳統型號為 250W 至 300W，最新型號 3600D 的功率增加到 350W。在研究層面，已經做到了60...

      2023-06-19 標簽：光刻機EUV光刻膠 480 0

      英特爾推進面向未來節點的技術創新，在2025年后鞏固制程領先性

      英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。...

      2024-05-16 標簽：英特爾光刻EUV 478 0

      關于高數值孔徑EUV和曲線光掩模等燈具的討論

      半導體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...

      2023-10-17 標簽：半導體光刻EUV 473 0

      EUV光刻機機密文件被盜！

      EUV光刻機機密文件被盜！

      4月22日消息，據法國媒體LeMagIT報道，日本光學技術領導廠商 Hoya Corporation（豪雅）最近遭遇了勒索軟件的攻擊，其總部和多個業務部...

      2024-04-22 標簽：光刻機EUV 473 0

      ASML為什么能在EUV領域獲勝？

      ASML為什么能在EUV領域獲勝？

      在討論ASML以及為何復制其技術如此具有挑戰性時，分析通常集中在EUV機器的極端復雜性上，這歸因于競爭對手復制它的難度。

      2024-01-17 標簽：硅晶圓光刻機EUV 463 0

      英特爾競購High-NA EUV設備，臺積電決定回避

      　另一方面，臺積電的年度技術論壇正在美國和歐洲如火如荼地進行，備受世人矚目的是該公司計劃在2026年量產A16技術，該技術將結合納米片晶體管和超級電軌架構。

      2024-05-20 標簽：臺積電晶體管EUV 462 0

      臺積電未確定是否采購阿斯麥高數值孔徑極紫外光刻機

      盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之二，但芯片制造商需要權衡利弊，考慮其高昂的成本及ASML老款設備的可靠性問題。

      2024-05-15 標簽：臺積電EUVASML 457 0

      一種無透鏡成像的新方法

      一種無透鏡成像的新方法

      使用OAM-HHG EUV光束對高度周期性結構進行成像的EUV聚光顯微鏡 為了研究微電子或光子元件中的納米級圖案，一種基于無透鏡成像的新方法可以實現近乎...

      2024-07-19 標簽：激光成像EUV 446 0

      美投資8.25億美元建設NSTC關鍵設施,重點發展EUV光刻技術

      拜登政府已宣布一項重大投資決策，計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元，用于建設國家半導體技術中心（NSTC）的核心設施。據美國商務部透露，奧爾巴尼...

      2024-11-01 標簽：光刻技術EUVASML 440 0

      那個晶圓廠，真的會建嗎？

      在2023年12月舉辦的“Semicon Japan”演講中，SEMI演講者預計2025年相關投資額將達到1,250億美元。

      2024-01-18 標簽：晶圓電力設備晶圓代工 380 0

      英特爾芯片制造業務轉用EUV工具，虧損加劇

      該企業宣布其制造部門于2023年度產生70億美元的運營虧損，相比去年同期的52億美元有所擴大；另一方面，盡管該部門2023年呈現出189億美元的銷售收入...

      2024-04-03 標簽：英特爾制造業EUV 375 0

      新型EUVL技術問世，超越半導體制造標準線

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      來源：Trend Force 據STDaily援引日本沖繩科學技術研究生院（OIST）官網近日報道稱，該大學設計出一種超越半導體制造標準邊界的極紫外（E...

      2024-08-06 標簽：半導體EUV 369 0

      日本首臺EUV光刻機就位

      日本首臺EUV光刻機就位

      據日經亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻...

      2024-12-20 標簽：光刻機EUV 335 0

      英特爾從以色列政府獲得32億美元撥款 用于建設250億美元芯片工廠

      來源：Silicon Angle 英特爾公司已獲得以色列政府32億美元的撥款，用于在該國建造一座價值250億美元的新芯片工廠。 該公司近日宣布了這項交易...

      2024-01-02 標簽：芯片英特爾EUV 334 0

      碳納米管在EUV光刻效率中的作用

      碳納米管在EUV光刻效率中的作用

      ? 受人工智能和超連接性普及的推動，預計半導體行業規模將在未來十年內翻一番。然而，盡管微芯片（從智能手機到救命醫療設備等一切產品的基礎）的需求量空前高漲...

      2025-01-22 標簽：碳納米管光刻EUV 112 0

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