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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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《財富》日前發布2020年改變世界的公司排行榜。每年,《財富》雜志都會評選那些對社會或環境產生重大影響的公司,今年有53家公司入榜,其中,紫外線殺菌燈生...
韓媒BusinessKorea昨日報道,三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做,那就會提升其在7nm等先進工藝上的領先...
6nm EUV的5G SoC:搭載虎賁T7520的手機將于明年量產
今年2月,紫光展銳發布了首款采用SoC單芯片設計的5G方案虎賁T7520,采用了6nm EUV工藝制造,擁有多層極紫外光刻技術加持,相比初代7nm晶體管...
5000億美元!半導體行業超級周期開啟 存儲器和半導體設備增長強勁
SEMI全球副總裁、中國區總裁居龍在南京半導體大會的高峰論壇上表示,2021年全球半導體市場會有15%到20%的增長,第二季度到第三季度增長率有可能超過...
在芯片制造過程中,任何一點小瑕疵都可能造成整批芯片的報廢。因此,這一過程中晶圓監測必不可少,可以保證芯片的良品率和控制成本。
3月3日晚間,中芯國際在港交所公告,根據批量采購協議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間,就購買阿斯麥產品與阿斯麥集團簽訂購買單,...
浸潤式微影技術、多重圖形以及高折射率液體,將讓193納米微影設備走到國際半導體技術藍圖(ITRS)目前的終點:8納米。屆時,EUV技術可有出頭日?
EUV光刻機,一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份,時任中國科學院院長白春禮公開表態稱,將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間,中國科學家...
新思科技加快下一代設計 設計平臺成功獲的TSMC 5nm EUV工藝技術認證
IC Compiler II和Design Compiler Graphical提供了統一流程,實現最低功耗、最佳性能和最優面積。 StarRC、Pr...
ASML在IEDM 2019大會上披露,截至2019年,總共已經使用EUV設備處理了450萬片晶圓。該公司最新的NXE:3400C系統每小時可生產170...
關于光子芯片: 光子芯片采用光波(電磁波)來作為信息傳輸或數據運算的載體,一般依托于集成光學或硅基光電子學中介質光波導來傳輸導模光信號,將光信號和電...
針對近幾日多家媒體報道的有關ASML公司對中芯國際訂購的EUV光刻機設備有意延遲的推測。二家公司今日均發表內容回應。 ASML回應如下: 關于日經新聞(...
日前,有韓國媒體稱,中芯國際董事長周子學在韓國訪問時表示,已經解決了與ASML之間就光刻機供應的問題。對此中芯國際表示,韓媒發布的涉EUV報道不實,中芯...
臺積電今年7納米總產能將增加1.5倍 達到100萬片約當12吋晶圓
臺積電近日舉辦技術論壇,今年臺積電(TSM.US)總產能將以7納米成長最多,第二代加入EUV的7納米預計第3季量產,今年7納米總產能將增加1.5倍,達到...
追求更小的 DRAM 單元尺寸(cell size)仍然很活躍并且正在進行中。對于 D12 節點,DRAM 單元尺寸預計接近 0.0013 um2。無...
荷蘭半導體設備制造商ASML Holding10月17日發布了2019年第三季度的銷售業績報告。在收入增長的情況下,受邏輯客戶設備銷售的推動,內存芯片市...
由于西方的禁運,中國芯片制造業無法得到EUV設備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家,分別是臺積電、三星及英特爾。
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