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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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英特爾與GlobalFoundries分別介紹介電質材料不同的新一代制程技術細節
在2017年度IEEE國際電子組件會議(IEDM)上,Intel與GlobalFoundries分別介紹了讓人眼前一亮的新一代制程技術細節。
韓國《中央日報》發布消息稱,三星電子已成功研發出5納米(nm)半導體工藝,并于4月中正式量產首個利用極紫外光刻(EUV)的7納米芯片。對于新一代半導體的...
蘋果A13芯片將采用臺積電第二代7nm工藝 并率先采用EUV光刻技術
彭博報道稱,臺積電已于4月份就開始了蘋果A13芯片的早期測試生產階段,并且計劃在本月進行量產。預計A13芯片將采用臺積電的第二代7nm工藝,并且率先采用...
三星周二舉行晶圓代工技術論壇(Samsung Foundry Forum),同時揭露發展3納米制程的技術路圖,以及7納米投產進度,將搶攻高端運算與聯網裝置市場。
近日,SK海力士在官網宣布,適用第四代10納米(1a)級工藝的 8Gigabit(Gb)LPDDR4 移動端DRAM(動態隨機存儲器)產品已于7月初開始...
? 電子發燒友網報道(文/周凱揚)作為目前最先進的半導體制造設備,EUV光刻機的誕生是由各個部件在技術上的集體突破才最終成型的,比如光刻膠、掩膜板和鏡組...
三星宣布已正式使用7納米LPP制程來生產晶圓 功耗降低50%效能提升提高20%
晶圓代工大廠三星宣布,正式開始使用其7納米LPP制程來生產晶圓。三星的7納米LPP制程中使用極紫外光刻(EUV)技術,這將使三星7納米LPP制程能夠明顯...
EUV光刻技術競爭激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認證,臺積電緊追其后
在晶圓代工市場,臺積電與三星的競爭始終是大家關心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶,但在7納米制程節點,高通預計會轉投臺積電,三星要想受更多客戶的青睞,...
目前在幾乎所有的半導體廠商普及7nm,部分甚至進入5nm工藝的時候,英特爾仍然打磨自家的14nm工藝,當然打磨了之后還是有成果的,那就是頻率已經突破天際...
半導體細微化(Scaling)是目前半導體行業最熱門的話題之一。隨著DRAM等的芯片元器件在內的大部分電子元器件和存儲單元趨于超小型化,對于高度集成技術...
臺積電第四季度凈利潤1428億新臺幣,今年資本支出預計提高50%
1月14日,臺積電公布了2020年第四季度財報,截止去年12月31日,該季營業收入達3615億新臺幣,約合126.8億美元,凈利潤達1428億新臺幣。與...
從2017到2018年,全球IC制造產業資本投資規模達到高峰,近兩年總投資均超過920億美元規模。目前中國臺灣IC制造產業仍以晶圓代工貢獻最主要產值,隨...
延續7納米制程領先優勢,臺積電支援極紫外光(EUV)微影技術的7納米加強版(7+)制程將按既定時程于3月底正式量產,而全程采用EUV技術的5納米制程也將...
不使用EUV突破1nm極限?美國推出全新光刻系統,分辨率0.768nm!
電子發燒友網報道(文/梁浩斌)最近,一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統Zyvex Litho 1,據稱分辨率可以達到0...
中芯國際CEO趙海軍:EUV將在7nm形成主流 專注生產大技術
中芯國際CEO趙海軍表示,摩爾定律現在還在繼續發展,EUV將在7nm形成主流,EUV變化非常大,很多環節都要重新開始,變化來的太快。28納米工藝如果到7...
據中國證券報報道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機,但這是設備正常導入,用于產能擴充,并非外界所稱的EUV光刻機。
基于EUV技術,制程工藝演進到intel4,激發千倍算力怎么做?英特爾宋繼強揭示前沿半導體技術創新路徑
如何突破算力的瓶頸?如何讓不同架構的處理器在硬件架構布局上發揮最大協同作用?從終端側、到邊緣再到服務器,如何對不同級別的硬件進行加速?英特爾研究院副總裁...
全球三大晶圓代工廠今年將導入極紫外光微影技術 家登EUV光罩盒將大出貨
全球三大晶圓代工廠臺積電、英特爾、三星,最快將在2019年導入極紫外光微影技術(EUV),值得注意的是,全球可提供EUV光罩盒的業者只有兩家,家登是其中...
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